一般的な水道水やミネラルウォーターを加湿装置を使用して加湿噴霧した場合、電子基板や部品表面に付着した水分は蒸発をします。
しかし、水に溶解をしている溶解イオンは蒸発せずに表面に残り濃縮をしていきます。そして、溶解しているイオンは水分が全て蒸発すると、蒸発残留物質として表面に付着した状態となります。このような成分はカルシウム・マンガン・マグネシウム・鉄分・カリウム・シリカなどになります。
この蒸発せずに、基板や部品表面上に残った成分がウォーターマークと呼ばれます。
ウォーターマークの原因物質である溶解しているイオン(カルシウム・マグネシウム・マンガン・鉄分・カリウム・シリカなど)は、一般的な異物を除去するフィルターであるMF膜やUF膜・活性炭などでは水中よりろ過をし除去をすることができません。
このような物質は、逆浸透膜(RO膜)とイオン交換樹脂のろ過と吸着により、液中より取り除くことができます。
これは、超純水を製造する工程となり、ろ過後の清浄度により、逆浸透膜のみやイオン交換樹脂のみのろ過でよい場合や、両方を使用する場合、その他にTOC成分を除去する装置などの組み合わせにより、ろ過処理をされます。